庫號：M250167   

原理：
依據(jù)二極(DC)直流濺射原理。濺射電流調(diào)整控制器、微型真空氣閥在工作時結(jié)合內(nèi)部自
動控制電路控制真 空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體。根據(jù)電場中氣體電離
te 性，采用da 容量樣品濺射真 空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層均 勻 純 凈。
參數(shù)：
? 主機規(guī)格：340mm×390mm×300mm（W×D×H）
? 靶（上部電極）：金：50mm×0.1mm（D×H）
? 靶材：Au（標配）
? 樣品室：硼硅酸鹽玻璃 160mm×120mm（D×H）
? 靶材尺寸：Ф 50mm
? 真空指示表： zui 高 真 空度：≤ 4X10-2 mbar
? 離子電流表： zui 大 電流：50mA
? 定時器： zui 長時間：1-360s
? 微型真 空氣閥：可連接φ 3mm 軟管
? 可通入氣體： 多種
? zui 高電壓： -2800 DCV
? 機械泵：標準配置 2L/S（國產(chǎn) VRD-8）
用途：
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備，非導體材料實驗電極制作。
特點：

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。
3、SETPLASMA 手動啟動按鈕可預先設置好壓強和濺射電流避免對膜造成不 必 要的損 傷。
4、真 空保護可避免真 空過低造成設備短路。
5、同時可以通過換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到geng 細顆粒的涂層。
6、通過通入不同的惰性氣體以達到純凈的涂層。
7、高壓輸出涂層牢固，適用于非導體材料實驗電極制作。